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化學真空系統 MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK使用一個真空泵即可同時實現兩種過程控制?？膳c旋轉蒸發儀、真空濃縮儀和真空烘箱等配合使用。每個真空連接口配備一個手動控制閥來調節進氣口的有效流量。

化學真空系統 MD 4C NT +2AK在化學、生物和制藥等實驗室應用廣泛，主要用于不需要在出氣口收集溶劑蒸汽冷凝液的氣體或蒸汽的抽取、蒸發等過程。系統可很好地滿足高沸點溶劑的真空需求。

化學真空系統 MD 1C +AK+EK廣泛應用于排氣、蒸發或者氣體抽取等過程。它可滿足高沸點溶劑更高的真空需求，常用來取代旋片泵。主要用于連接旋轉蒸發儀和真空干燥箱。進氣口的分離瓶（AK）為玻璃材質，外部覆保護膜，用來防止顆?；蛐∫旱芜M入泵體。出氣口的廢氣冷凝器（EK）效率高，結構緊湊，可實現近100%的溶劑回收效果，有效地循環利用溶劑同時保護環境。

化學隔膜泵 MD 12C NT可以滿足非常高的要求。MD 12C NT 的八泵頭三級結構，使其同時具有大抽氣速度和超高極限真空的優點。所有與所抽介質接觸的部件均采用耐化學腐蝕的氟塑料。經廣泛驗證的PTFE“三明治”夾層結構膜片增強了其穩定性，同時延長操作壽命。

化學隔膜泵 MD 4CRL NT描述 對于泵的氣密性要求非常高的那些應用，我們推薦使用MD 4CRL NT。這款三級泵同時具有大抽氣速度和超高極限真空的優點。MD 4CRL NT的所有與被抽介質接觸的部件都是由抗化學腐蝕的氟材料和一種特殊的、高耐腐蝕的不銹鋼材料構成。經廣泛驗證的PTFE“三明治”夾層結構的膜片穩定性更高，延長了操作壽命。經測試，每個泵的整體漏率都僅為0.001mbar l/s。

VARIO®化學真空系統 PC 3012 NT VARIO DUO由兩個獨立的VARIO®真空系統組成，在進氣口端并行連接，并通過一個CVC 3000控制器同時進行操控。真空條件可控制。兩個獨立真空泵的轉速可以根據真空需求控制?？刂破骷纯蓪崿F不需要用戶預設的全自動蒸餾，又可以進行特定的、可重復地程序編程。